Литографическая машина ASML устанавливает новый рекорд плотности элементов

Голландская компания ASML всего несколько месяцев назад запустила первую в мире литографическую машину с высокой числовой апертурой, а теперь устройство размером с комнату уже бьет рекорды.

Компания объявила, что установила новый рекорд плотности производства чипов, ознаменовав благоприятный старт для устройства следующего поколения, стоимость которого, как сообщается, составляет около 400 миллионов долларов.

По данным Tom’s Hardware, ASML представила презентацию своей машины с высокой числовой апертурой (high-NA) на конференции imec ITF World 2024. Компания продемонстрировала некоторые свои достижения и обсудила планы. На выставке выяснилось, что машина с высокой числовой апертурой успешно создала плотность 8 нм (нанометров) на пластине, что превзошло предыдущий рекорд машины в 10-нм, достигнутый в начале апреля.

Для примера, обычные машины с экстремальным ультрафиолетом (EUV) или с низкой числовой апертурой способны создавать элементы размером примерно 13,5 нм, поэтому переход к 8 нм является значительным. ASML также предлагает машину «гипер-NA», которая продвинет дело еще дальше, но отмечает, что это будет невозможно до примерно 2033 года.

Заявление ASML показывает, что компания идет по пути достижения высокой NA и что машина, скорее всего, будет соответствовать заявленным спецификациям. ASML, безусловно, надеется, что подобные объявления смогут убедить больше производителей чипов приобрести машину, поскольку пока такую ​​машину приобрела только Intel.

Поскольку большая часть индустрии производства микросхем по-прежнему использует обычные EUV или low-NA, компания ASML также объявила о планах снизить стоимость разработки EUV за счет значительного увеличения скорости их производства. Бывший президент и технический директор компании заявил на конференции, что ASML планирует увеличить скорость создания пластин EUV до 400–500 пластин в час по сравнению с существующими 200 пластинами в час.